1、招标条件
项目概况:满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于快速热退火&快速热氧化设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于尖峰快速退火&快速热退火设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于快速热退火（硅化物）设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于原位水蒸气生成氧化设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于原位水蒸气生成氧化层（浅沟槽隔离衬垫生长）设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于去藕合电离子体氮化＆氮化後退火设备
满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于等离子体增强原子层氧化硅薄膜化学气相沉积设备
资金到位或资金来源落实情况:现招标人资金已到位，具备了招标条件。
项目已具备招标条件的说明:现招标人资金已到位，具备了招标条件。
2、招标内容
招标项目编号:0613-174022084612/04
招标项目名称:上海华力集成电路制造有限公司原位水蒸气生成氧化层设备
项目实施地点:中国上海市
招标产品列表(主要设备):
| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 1 | 快速热退火&快速热氧化设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于快速热退火&快速热氧化设备 | |
| 2 | 尖峰快速退火&快速热退火设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于尖峰快速退火&快速热退火设备 | |
| 3 | 快速热退火（硅化物）设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于快速热退火（硅化物）设备 | |
| 4 | 原位水蒸气生成氧化层设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于原位水蒸气生成氧化设备 | |
| 5 | 原位水蒸气生成氧化层（浅沟槽隔离衬垫生长）设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于原位水蒸气生成氧化层（浅沟槽隔离衬垫生长）设备 | |
| 6 | 去藕合电离子体氮化＆氮化後退火设备 | 2台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于去藕合电离子体氮化＆氮化後退火设备 | |
| 7 | 等离子体增强原子层氧化硅薄膜化学气相沉积设备 | 1台 | 满足12英寸集成电路生产企业的28nm工艺研发和量产要求，用于等离子体增强原子层氧化硅薄膜化学气相沉积设备 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:1）投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织；
2）投标人或投标货物的制造商须具备向12英寸集成电路制造企业提供此类设备的供货和安装调试经验；
3) 法律、行政法规规定的其他条件。
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始时间:2017-12-23
招标文件领购结束时间:2017-12-29
是否在线售卖标书:否
获取招标文件方式:现场领购
招标文件领购地点：上海市长寿路285号恒达广场16楼（上海机电设备招标有限公司）
招标文件售价:￥1000/$150
5、投标文件的递交
投标截止时间（开标时间）:2018-01-15 09:30
投标文件
项目负责人：李阳（女士）
手机：13683233285
电话：010-51957458
QQ：1211306049
邮件：1211306049@qq.com
