该项目已具备招标条件，现对磁控溅射炉进行公开招标。
招标编号：XHTC-HW-2018-0354
1、设备名称：磁控溅射炉
2、型号规格：非标
3、数 量：一台
4、设备功能
设备可实现在锥形内空工件（约Φ125*Η110mm）内外表面、圆柱形(Φ30*Η800mm)外表面及粉体颗粒（D0.1～0.5mm）外表面溅射镀制单层膜、多层膜和复合膜（共溅射），可以镀制纯金属、合金以及氧化物等薄膜材料，可溅射材料Al\Cr\Ni\Cu\/Zn等（必须可溅镀Cr\Ni\Cu），且能实现反应溅镀镀陶瓷膜。通过软、硬相配合的传感技术、互锁技术、超时控制、智能监控、在线状态记忆、断点保护、安全日记、操作日志等设计，使设备的安全性得以保障。
5、主要性能参数
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序号 |
项 目 |
技术参数 |
备注 |
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1 |
溅射室规格 |
1. 若设计为单一真空腔体，尺寸≤长1800mm×宽1100mm×高1000mm； 2. 若设计为2个或3个真空腔体，尺寸以最终设计为主，但每个腔体的尺寸≤长1300mm×宽1000mm×高1000mm。 |
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2 |
工件台旋转 |
公转、自转+公转、定点自转、1-25rpm，连续可调 |
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3 |
溅射靶规格 |
溅射靶尺寸Ф80 mm、Ф100mm，总数量8只，两种靶材需配置尺寸与数量之间的对应关系，以设计为准 |
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4 |
溅射材料 |
纯金属、合金材料（二元），氧化物 |
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5 |
溅射靶 布置形式 |
靶材布置位置、安装数量及规格以供方的设计为准，但需保证镀膜的均匀性要求同时工件镀膜效率最高（要求投标人明确镀膜效率） |
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6 |
样品加热 |
可将样品加热至400℃，PID自动测温、控温，多段控温模式，控温精度±1% |
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7 |
样品装载量 |
Φ30mm*L800mm棒状工件，8-12件/炉；Φ125mm*H110mm锥形工件，8-12件/炉； 100-500µm类球型颗粒不小于100g。 |
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8 |
溅射不均匀性 |
±10～±15%（依异形样品形状确定） |
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9 |
溅射速率 |
依据具体工件对应的工艺设计为准，投标人在投标文件中明确 |
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10 |
真空室 |
不锈钢真空室，带有前开舱门、观察窗口 |
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11 |
极限真空 |
6.7×10-5 Pa（环境湿度≤55%） |
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12 |
真空室漏气率 |
≤5.0×10-7 Pa·L/s |
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13 |
抽气速率 |
系统短时间暴露大气并充干燥N2开始抽气，溅射室30分钟可达到9.0×10-4Pa |
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14 |
真空室保压 |
系统停泵关机12小时后真空度：≤5Pa |
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15 |
工件清洗系统 |
工件在真空腔室内能实现全部外表面等离子清洗 |
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2.4 交货地点：
*2.5交货期：合同签订后5个月。
3. 投标人资格要求
3.1在中华人民共和国境内注册的独立法人，具有合法有效的营业执照、组织机构代码证、税务登记证（或三证合一的营业执照）。
3.2投标人必须是投标设备的制造商，并独立于招标人和招标机构，需具备完善、有效的质量保证体系，具有质量保证管理体系认证证书。
3.3投标人近三年来应具有同类或类似投标设备供应和服务的业绩，并提供相应的业绩证明材料（签订日期在2015年1月1日后的同类或类似投标设备供应及服务合同的复印件，至少应包括合同首页、供货范围页及签字页）。
3.4 本项目不接受联合体投标。
3.5法律、行政法规规定的其他条件。
5. 投标文件的递交
5.1 投标文件递交的截止时间（投标截止时间，下同）为2018年6月27日9时00分
