1、招标条件
项目概况:武汉京东方光电科技 武汉高世代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）生产线项目
资金到位或资金来源落实情况:资金已到位
项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件
2、招标内容
招标项目编号:0714-174BOEWH0001/08
招标项目名称:武汉京东方光电科技 武汉高世代薄膜晶体管液晶显示器件（TFT-LCD）生产线项目
项目实施地点:中国湖北省
招标产品列表(主要设备):
| 序号 | 产品名称 | 数量 | 简要技术规格 | 备注 |
| 0714-174BOEWH0001/04 | 阵列磁控溅射机 | 14台 | 设备用途及基本要求： 本设备主要用于TFT LCD行业中 Sputter薄膜沉积。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
| 0714-174BOEWH0001/05 | 彩膜磁控溅射机 | 2台 | 设备用途及基本要求： 本设备主要用于【G10.5彩膜基板上ITO薄膜溅镀工艺】。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 | RMB25000/USD4050 |
| 0714-174BOEWH0001/06 | 等离子体增强化学气相沉积装置 | 16台 | 设备用途及基本要求： 本设备主要用于TFT LCD领域等离子体增强化学气相沉积装置来进行薄膜沉积，传送系统能够适用0.4t~0.7t 玻璃。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
| 0714-174BOEWH0001/07 | 阵列干法刻蚀机 | 15台 | 设备用途及基本要求： 本设备主要用于TFT LCD 的Dry Etch System for Etching Pattern。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 | RMB30000/USD4850 |
| 0714-174BOEWH0001/08 | 阵列干法刻蚀机 | 7台 | 设备用途及基本要求： 本设备主要用于TFT LCD 的Dry Etch System for Etching Pattern。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 | RMB25000/USD4050 |
3、投标人资格要求
投标人应具备的资格或业绩:投标人应是响应招标、已在招标机构处领购招标文件，并参加投标竞争的法人或其他组织。凡是来自中华人民共和国或是与中华人民共和国有正常贸易往来的国家或地区的法人或其他组织均可投标。
是否接受联合体投标:不接受
未领购招标文件是否可以参加投标:不可以
4、招标文件的获取
招标文件领购开始时间:2018-06-15
招标文件领购结束时间:2018-06-25
是否在线售卖标书:否
获取招标文件方式:现场领购
招标文件领购请各投标人登录中国电子进出口 招标采购网 /// 进行招标文件的购买和下载。
5、投标文件的递交
投标截止时间（开标时间）:2018-07-06 10:00
投标文件
项目负责人：李阳（女士）
手机：13683233285
电话：010-51957458
QQ：1211306049
邮件：1211306049@qq.com
